Ваш город:
Санкт-Петербург
Ваш город Санкт-Петербург?
ВЕЛМАС
  • Санкт-Петербург, БЦ «Металлист», наб. Обводного канала д. 150, оф. 519
  • 8-812-424-18-63
  • 8-800-250-18-63
  • Whatsapp
    Telegram

    Пишите нам через WhatsApp или Telegram и получайте мгновенный ответ в чате!

    +79112780168


    - Уточняйте цены на оборудование и услуги

    - Узнавайте о наличии товара на ближайшем складе

    - Запрашивайте информацию об актуальных акциях и спецпредложениях

0
Санкт-Петербург, БЦ «Металлист», наб. Обводного канала д. 150, оф. 519
Пн-Пт: с 9:00 до 18:00
Санкт-Петербург
Ваш город Санкт-Петербург?
Каталог товаров
Каталог товаров
Еще категории
Электронные микроскопы компании FEI обеспечивают максимальную разрешающую способность, универсальность характеристик и широкий спектр возможностей по дооснащению различным дополнительным оборудованием
Полное описание
Производитель«FEI Company», США
Под заказ
Артикул: art25202:apreo
Цена от 19.09.2023, для уточнения актуальной стоимости просим связаться с менеджером.
Цена по запросу
-+Купить
Запросить КП
Запросить видеодемонстрацию прибора
  • Обзор
  • Характеристики
  • Отзывы0
«FEI Company», США

Сканирующий электронный микроскоп Apreo - высокопроизводительная платформа для исследования наночастиц, катализаторов, порошков и наноустройств, в том числе, для работы с магнитными образцами. Традиционные сканирующие электронные микроскопы высокого разрешения обладают либо электростатическими линзами, либо с магнитной иммерсией. Впервые FEI объединяет оба способа в одном инструменте.

Преимущества данной компоновки выходят далеко за рамки производительности любой другой колонны. И тот и другой метод служит для формирования пучка в тонкий зонд для получения изображения при низких ускоряющих напряжениях и направления детектируемых электронов обратно через линзу в колонну. За счет комбинации магнитной и электростатической иммерсии в одной электронной пушке достигается более высокая разрешающая способность и добавляются уникальные возможности для фильтрации сигнала. Комбинированная электростатически-магнитная конечная линза обеспечивает разрешение 1,0 нм при 1 кВ (без активации функции замедления пучка или монохроматора).

Характеристики

Особенности
  • Электронная колонна высокого разрешения с полевой эмиссией Шоттки, включает: 
  • Высокостабильный источник полевой эмиссии Шоттки обеспечивает стабильные высокие токи в сочетании с высокой разрешающей способностью 
  • Комбинированная конечная линза: сочетание электростатического поля, безполевого магнитного и иммерсионной магнитной объективной линзы. 
  • Угол объективной линзы в 60°: позволяет наклонять большие образцы 
  • Автоматически очищаемые за счет подогрева диафрагмы обеспечивают стабильную работу 
  • Дифференциальная откачка через линзу для низкого вакуума уменьшает расщепление пучка электронов, что увеличивает точность анализа и разрешающую способность. 
  • Функция замедления пучка с диапазоном от -4000 В до +600 В 
  • Непрерывный контроль тока пучка и оптимизированный угол раскрытия конечной линзы 
  • Двухступенчатая технология отклонения пучка 
  • Простота в установке и настройке пушки, техническое обслуживание – авто отжиг пушки, авто старт, отсутствуют механических юстировок. 
  • Гарантированное время жизни источника: 12 месяцев.
Характеристики электронной пушки
  • Высокий вакуум с оптимальной рабочей дистанцией, иммерсионный режим - 0,8 нм при 30кВ (STEM) - 0,9 нм при 15 кВ - 1,0 нм при 1 кВ - 1,2 нм при 500 В - 2,5 нм при 100 В 
  • Высокий вакуум с оптимальной рабочей дистанцией, режим без поля - 0,8 нм при 30 кВ (STEM) - 1,0 нм при 15 кВ - 1,3 нм при 1 кВ 
  • В режиме низкого вакуума, оптимальной рабочей дистанцией, режим без поля - 1,2 нм при 15 кВ - 1,8 нм при 3 кВ
Предметный столик
  • Вцентрический гониометрический высокоточный моторизованный по 5 осям предметный столик 
  • Перемещение в плоскости XY: 110 x 110 мм 
  • Воспроизводимость результатов: < 3,0 мкм (при наклоне 0°) 
  • Моторизованное перемещение по оси Z: 65 мм 
  • Поворот: n x 360° 
  • Наклон: -15° / +90° 
  • Максимальная высота образца: Расстояние 85 мм до точки Вцентрика 
  • Максимальный вес образца: 500 г при любом положении предметного столика (до 2 кг при наклоне 0°) 
  • Максимальный размер образца: Ø122 мм при полном вращении (для образцов большего размера вращение ограничено) 
  • Стандартно поставляется уникальный стол-держатель для различных задач, на который можно установить до 18 стандартных столиков образцов (диам. 12 мм), 3 скошенных стойки, образцы поперечных сечений и 2 наклонных многостоечных держателей* (38° и 90°), при этом не требуется инструментов для установки образцов. 
  • Каждый из наклонных многостоечных держателей может использоваться с 6 S/TEM сетками 
  • Держатель печатных плат и другие держатели по заказу
Рабочая камера
  • Внутренняя ширина: 340 мм 
  • Аналитическая рабочая дистанция: 10 мм 
  • Установка до трех детекторов EDS, два из которых расположены друг напротив друга (под углом 180°) 
  • Копланарное расположенные (в одной плоскости) EDS/EBSD и осью наклона столика
Детекторы
  • Apreo может регистрировать до четырех сигналов одновременно из любой комбинации из имеющихся детекторов или сегментов детектора. 
  • Тройная система детектирования (внутрилинзовая и внутри колонны) - Т1 – нижний внутрилинзовый детектор, разделенный на сегменты - Т2 – верхний внутрилинзовый детектор - T3 – внутриколонный детектор 
  • ETD – детектор вторичных электронов Верхарта-Торнли 
  • DBS – выдвижной сегментированный детектор ООЭ 
  • Детектор вторичных электронов для низкого вакуума 
  • DBS-GAD монтирующийся на линзу газовый аналитический детектор ООЭ 
  • STEM 3+ - выдвижной сегментированный детектор для просвечивающей микроскопии (BS, DF, HADF, HAADF) 
  • Инфракрасная камера для контроля положения образца 
  • Nav-Cam+ цветная цифровая камера для простой навигации по образцу
Вакуумная система
  • Безмасляная вакуумная система 
  • 1х220 л/с TMP (турбомолекулярный насос) 
  • 1хPVP (форвакуумный насос) 
  • 2 ионно-геттерных насоса 
  • Уровень вакуума в камере (высокий) < 6,3e–6 мбар (после 72 часов откачки) 
  • Время откачки: ≤3,5 мин 
  • Режим низкого вакуума (опционально)
  • Давление в камере при низком вакууме от 10 до 500 Па 
  • Каждый из наклонных многостоечных держателей может использоваться с 6 S/TEM сетками 
  • Держатель печатных плат и другие держатели по заказу
Дополнительные аналитические возможности
  • Система очистки образца/камеры: система криогенной чистки FEI Cryocleaner, интегрированная система плазменной чистки FEI 
  • Анализ: EDS, EBSD, WDS, CL, Raman 
  • Система быстрой загрузки образца QuickLoader 
  • Навигация: Навигационная камера, корреляционная навигация, программное обеспечение для сшивки MAPS Газовая инжекционная система (GIS) FEI: до 2 устройств (другие опции могут ограничить количество доступных систем GIS) для осаждения следующих материалов: - Платина - Вольфрам - Углерод 
  • Манипуляторы 
  • Криостолик 
  • Электрическое зондирование 
  • Электростатическая блокировка пучка
Управление системой
  • 64-битный графический пользовательский интерфейс на базе Windows 7, клавиатура, оптическая мышь 
  • 24-дюймовый ЖК-монитор, WUXGA 1920 x 1200 (второй монитор – опция 
  • Настраиваемый графический интерфейс с возможностью выбора до 4-х одновременно активных окон 
  • Регистрация изображения 
  • Встроенная навигация 
  • Программное обеспечение для анализа изображения 
  • Функция отмены и повтора (после отмены) действия
  • Гид пользователя для простых операций/приложений 
  • Джойстик (опционально) 
  • Многофункциональное контрольное устройство управления (опционально)
Получение изображений
  • Время получения изображения 0,025 – 25000 мкс/пикс. 
  • Размер до 6144 х 4096 пикс. 
  • Тип файла: TIFF (8, 16, 24 bit), BMP, JPEG 
  • Однокадровое изображение или изображение в четырёх квадрантах 
  • Технология сканирования SmartSCAN (до 256 интегрированных изображений в одном) 
  • DCFI (компенсация дрейфа)
Доступные программные функции
  • Система для автоматизированного получения больших изображений и корреляционной работы MAPS 
  •  iFast для дополнительно автоматизации 
  • Программное обеспечение для архивации данных в сети 
  • Программное обеспечение для анализа изображений
Системные опции
  • Стандартно поставляется держатель для различных задач, уникальный тем, что устанавливается непосредственно на столик, и на него можно установить до 18 стандартных столиков образцов (диам. 12 мм), 3 скошенных стойки, образцы поперечных сечений и 2 наклонных многостоечных держателей* (38° и 90°) 
  • Каждый из наклонных многостоечных держателей может использоваться с 6 S/TEM сетками 
  • Держатель печатных плат и другие держатели по заказу*
Требования по установке
  • Электропитание: - напряжение 100 - 240 В (+6%, –10%) - частота 50 или 60 Гц (+/–1 %) - Потребляемая мощность: < 3,0 кВА в базовой комплектации 
  • Сопротивление заземления: < 0,1 Ом 
  • Условия эксплуатации: - температура (20±3) °C - относительная влажность не более 80% (без конденсата) - уровень паразитных ЭМП с переменным напряжением: < 40 нТ асинхронные поля, < 100 нТ синхронные поля 
  • Габариты дверного проёма: 0,9 м (ширина) х 1,9 м (высота) 
  • Вес микроскопа с колонной: 980 кг 
  • Рекомендуется чистый азот для напуска в систему 
  • Сжатый воздух (4 – 6) бар. Должен быть чистый, сухой и не содержать масла.
  • Система охлаждения - наличие 
  • Уровень шума (требуется обследование места установки) 
  • Вибрация пола (требуется обследование места установки, поскольку должен учитываться спектр частот вибрации) 
  • Виброизоляционный стол поставляется по доп. заказу
Производитель«FEI Company», США

Сканирующий электронный микроскоп Apreo отзывы

About this product reviews yet. Be the first!

Ультразвуковые дефектоскопы Ручные спектрометры Портативные рентгеновские аппараты Ультразвуковые толщиномеры Твердомеры Толщиномеры покрытий

ВЕЛМАС
Санкт-Петербург
Ваш город Санкт-Петербург?
Санкт-Петербург, БЦ «Металлист», наб. Обводного канала д. 150, оф. 519
Пн-Пт: с 9:00 до 18:00
Каталог товаров