Ионный микроскоп Vion Plasma FIB

В отличие от электронных микроскопов, ионные обладают рядом уникальных преимуществ, открывающих новые особые способности и возможности для исследования и непосредственного взаимодействия с исследуемым образцом.

Уникальность ионных микроскопов заключается в том, что вместо традиционного источника пучка выступают не электроны, а ионы, которые, благодаря своей значительно большей массе и размеру, позволяют как сканировать область образца и получать изображение, так и при высоких токах и энергиях выбивают атомы с поверхности образца – тем самым изменяя топологию и раскрывая ранее недоступные области для анализа. Фактически, две модели, представленные FEI v400ace и Vion Plasma FIB так же являются растровыми сканирующими микроскопами но с иным источником сканирующего луча. В отличие от v400ace, в котором используется ионная пушка на основе ионов галлия (Ga+), позволяющих проводить прецизионные и чистые поперечные срезы (Cross Section), в Vion Plasma FIB используется более новая технология – плазменная ионная пушка (Plasma FIB) на основе ионов ксенона (Xe+). Благодаря данной технологии Vion Plasma FIB позволяет проводить, как достаточно точные поперечные сечения, так и сечения огромных размеров – несколько сотен микрон, при этом за достаточно короткое время.

Vion Plasma FIB позволяет проводить точную резку и травление с высокой скоростью. Обладает возможностью избирательного травления заданных областей образца и химического осаждения материала. Используемый источник плазмы обеспечивает 20 – 60 раз более высокие токи пучка, чем традиционные ионные микроскопы с использованием ионов галлия, сохраняя при этом все возможности использования низкого тока пучка. Кроме того, в камере могут быть введены различные газы, оказывающие влияние на взаимодействие пучка с поверхностью образца и вызывающие осаждение материала (изолятора или проводника).